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砷化镓抛光晶片表面沾污的二次离子质谱分析
砷化镓抛光晶片 金属表面沾污 二次离子质谱
2008/12/18
在砷化镓工艺过程中，很多失效问题与表面的沾污有关，二次离子质谱分析是表面分析的有力手段，本文提供一种用二次离子质谱分析检测砷化镓表面钠、钾和铝的沾污水平的测试方法。
2008年10月27日，由中国矿业大学承办的第四届中国二次离子质谱学会议暨2008北京二次离子质谱学国际研讨会（SIMS IV08/ISSIMS 08 BEIJING）在我校国际交流中心开幕，来自美国、英国、德国、日本等多个国家和地区的67名二次离子质谱学专家和学者参加了会议。此次会议是全球华人关于二次离子质谱的唯一学术讲坛和学术论坛。前三届分别在清华大学和台湾新竹清华大学举办。