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目前Intel、AMD、IBM等国际著名厂商均将其集成电路生产工艺全面转入65nm制程，对于以高性能为目标的高端芯片设计，受到了来自成本、设计与测试复杂性等方面的诸多挑战.文中主要论述了其中两个重要而具体的挑战：高功耗和日益显著的工艺参数变化(process variation).首先分析了纳米工艺下芯片功耗的组成、高功耗的诸多危害和目前主要的低功耗设计方法；然后分析了工艺参数变化的组成，较大工艺...
