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SSIMS表征催化剂的表面状态和结构层次。
CuCl/γ-Al2O3体系的XPS、SSIMS、ISS研究
ISS SSIMS XPS CuCl/γ-Al2O3
2010/1/20
用XPS, SSIMS, ISS研究了CuCl在γ-Al_2O_3上的分散状态。结果指出: CuCl在γ-Al_2O_3表面呈单层分散, 用XPS得出的I_Cu/I_Al强度比与总CuCl含量曲线的转折点同XRD外推法得到的最大单层分散量相近。Cu 2p3/2光电子结合能随样品中CuCl浓度的增加而下降, 分散后的CuCl与纯CuCl在价带谱上有明显不同。ISS研究表明, CuCl/γ-Al_2O...